※產(chǎn)品特點※

1、 走位能力強，適用于形狀復雜工件的鍍鉻

2、 工作溫度范圍較寬，38-50℃均可正常工作；

3、 陰極電流效率高，沉積速度快，可采用較高的電鍍密度操作；

4、 鍍液對工件活化能力強，不易發(fā)花；

5、 對雜質(zhì)容忍度高，工藝穩(wěn)定，容易控制。

※鍍液組成和工藝條件※

※設(shè)備要求※

1、 整流器： 要保證足夠的容量，波紋系數(shù) < 5% ; 否則會影響深鍍能力;

2、 陽極應(yīng)采用鉛錫合金或鉛銻合金，陰極和陽極面積比為 1 比2-3；

※鍍液配制方法※

1、 在清洗過的鍍槽內(nèi)加入三分之二的蒸餾水或去離子水，并加熱到40℃；

2、 將計算量的鉻酐緩慢加入槽內(nèi)，攪拌使其全部溶解；

3、 將鉻走位劑加入鍍液內(nèi)，再將水量調(diào)至工作液面，并攪拌均勻；

4、，分析溶液中含量，再根據(jù)溶液中鉻酐和的比例,補加；

5、 采用大陰極、小陽極面積電解處理槽液，以產(chǎn)生所需量的三價鉻，也可添加或灑精，但要十分小心；

6、 試鍍工件，觀察溶液的覆蓋能力和鍍層的亮度，若符合要求即可投入生產(chǎn)

※添加劑的作用※

鉻走位劑 它是混合型的催化劑，可顯著提高低電位區(qū)的覆蓋能力，還可提高電鍍的沉積速度；

※鍍液維護※

1、 ： 鍍液中的含量極為重要，過高的含量會使走位變差，低電位區(qū)發(fā)黃；過低的會使鉻層起彩；

2、 三價鉻：三價鉻太高會使電流效率下降，走位也變差，高區(qū)還會發(fā)暗或燒焦。太低的三價鉻則不能電鍍出正常的鉻鍍層。

3、 溫度：溫度太低會使鍍層發(fā)花或發(fā)霧，太高則使鍍液濃度上升太快；

4、 其它雜質(zhì)影響：

氯離子：氯離子對鍍鉻極為有害，它會使鍍層發(fā)花或發(fā)霧，可采用電解方法去除；鐵離子：少量的鐵離子影響不大，但超過10克/升會使走位能力明顯下降，特別是同時含有鎳、銅、鋅等金屬雜質(zhì)時，影響更嚴重。太多的鐵和其它金屬雜質(zhì)可采用素燒陶瓷電解，或稀釋鍍液的方法解決故障。

3、 鉻走位劑光亮劑的補充：

一般情況下，鉻走位劑應(yīng)與鉻酐同時補充，每添加100公斤鉻酐需要補充4-5升的鉻走位劑如果是原來沒有用走位劑的鉻槽轉(zhuǎn)缸時，應(yīng)加入適量的碳酸鋇將槽中含量降低到1克/升左右，再加入鉻走位劑